拋光布輪廠家助你了解影響石材拋光的幾個(gè)因素

發(fā)布日期 : 2020-11-27
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　　拋光布輪廠家助你了解影響石材拋光的幾個(gè)因素。

　　材料。

　　石材拋光片。

　　拋光材料主要有氧化鉻(Cr2O3)、白剛玉(M1.0)、氧化鋁(Al2O3)和草酸(COOH2)。

　　拋光磨石一般有兩種:樹脂拋光塊;樹脂拋光盤。

　　產(chǎn)品拋光:將拋光磨石放在加工好的產(chǎn)品上，用機(jī)械設(shè)備快速運(yùn)轉(zhuǎn)，“干拋、濕拋”達(dá)到拋光效果，產(chǎn)品表面會(huì)有強(qiáng)烈的反射光，俗稱光澤度。

　　原理。

　　拋光的原理主要體現(xiàn)在兩個(gè)方面:顆粒研磨的原理;物理化學(xué)原理。

　　1.顆粒研磨:當(dāng)磨粒由粗磨研磨到粗磨拋光時(shí)，石材表面磨粒的研磨痕跡會(huì)變得光滑、平整、細(xì)膩，當(dāng)深度達(dá)到110微米時(shí)，加工表面會(huì)有鏡面光澤、明亮的光澤和明亮的顏色。

　　顆粒研磨包括以下步驟:

　　(1)粗磨:要求磨具切削能力深，磨削效率高，磨削線粗，磨削面粗糙，主要是去除前道工序留下的鋸片痕跡，將產(chǎn)品的平整度和造型面打磨到位;

　　②半精磨:去除粗磨痕跡，形成新的細(xì)線，產(chǎn)品加工表面平整光滑;

　?、奂?xì)磨:細(xì)磨后，產(chǎn)品的圖案、顆粒、顏色已清晰顯示，表面細(xì)膩光滑，開始有微弱的光澤度;

　　(4)細(xì)磨:加工產(chǎn)品無(wú)肉眼可見(jiàn)的痕跡。表面越來(lái)越光滑，光澤度40~50度左右;

　?、輶伖?表面光亮如鏡，有一定的鏡面光澤(85度以上)。

　　2.理化原理:有兩種拋光工藝，即“干拋光”和“濕拋光”。當(dāng)拋光磨石處于“干”和“濕”之間時(shí)，石材產(chǎn)品會(huì)發(fā)生物理和化學(xué)作用。在干拋中，當(dāng)石材表面溫度升高時(shí)，水分蒸發(fā)，導(dǎo)致拋磨石濃度增加，從而達(dá)到強(qiáng)化效果。產(chǎn)品光澤度開始達(dá)到理想要求，光澤度達(dá)到85度以上。

　　拋光磨石用于拋光加工產(chǎn)品。當(dāng)拋光產(chǎn)品變熱時(shí)，向板表面加水以降低溫度。不允許連續(xù)或大量的水。否則水的潤(rùn)滑會(huì)使拋光達(dá)不到理想的效果，不能完全使用干拋光。過(guò)高的溫度會(huì)燒壞印版表面，導(dǎo)致印版表面出現(xiàn)裂紋。

　　一般來(lái)說(shuō)，細(xì)磨后產(chǎn)品的光澤度在40~50左右，而有些石材細(xì)磨后光澤度達(dá)不到以上，如山西黑、黑金砂、濟(jì)寧黑等。這類產(chǎn)品細(xì)磨后的光澤度只有20~30度之間，不能用前面的顆粒研磨原理來(lái)解釋。這類產(chǎn)品在拋光時(shí)是“干濕一體”的，在升溫降溫過(guò)程中拋光過(guò)程得到加強(qiáng)。

　　3石材拋光設(shè)備石材拋光機(jī)。

　　4影響石材拋光的幾個(gè)因素石材的拋光效果取決于兩個(gè)方面:一是使用的拋光技術(shù)是“后天”的人為外因;第二，石頭本身有內(nèi)在的內(nèi)因。

　　如果不考慮石材的內(nèi)部因素，影響石材拋光的主要因素是拋光劑的種類、拋光液(膏)、拋光磨具、拋光盤(工具、磨塊)和拋光工藝參數(shù)。

　　(1)拋光劑的類型。

　　拋光劑雖然是一種特殊的拋光材料，但拋光劑和研磨材料的區(qū)別主要在于加工機(jī)理。原則上，一些硬度較低的微粉材料也可以用作拋光劑。然而，高硬度的拋光劑通常比低硬度的拋光劑好，并且應(yīng)用廣泛。金剛石拋光粉可以拋光大多數(shù)石材，拋光效果令人滿意。

　　(2)拋光液(糊狀)

　　水是一種常見(jiàn)的拋光液。它不僅可以起到磨削冷卻的作用，還可以作為拋光過(guò)程中物理和化學(xué)作用的介質(zhì)。

　　如果石材的拋光以機(jī)械研磨為主，如金剛石微粉，一般**用油類有機(jī)液體作為拋光液，如縫紉機(jī)油。其冷卻、潤(rùn)滑和分散效果**。

　　金剛石研磨膏，無(wú)論是水質(zhì)還是油質(zhì)，也可以加入著色劑。其配方為:磨料+分散劑+載體+水+著色劑。

　　(3)拋光盤(工具和研磨塊)

　　平整規(guī)格的光面石材面板是石材平面打磨的一種表現(xiàn)。金屬材料制成的硬盤常被用作拋光盤。用軟盤拋光的拋光面，在石頭受壓時(shí)容易屈服成凹面，適合弧面拋光。中硬盤耐磨性好，吸附性好，有一定的彈性，對(duì)平面石材有很好的拋光效果。

　　(4)拋光工藝參數(shù)。

　　工藝參數(shù)包括拋光劑的濃度和供給量、拋光過(guò)程中的壓力和線速度等。在濃度小于一定值之前，拋光速度隨著拋光劑濃度的增加而增加。濃度達(dá)到**后，如果再次增加濃度，拋光速度反而降低。類似地，當(dāng)拋光劑的供應(yīng)量處于某個(gè)值時(shí)，拋光速度達(dá)到**，然后如果供應(yīng)量持續(xù)增加，拋光速度反而降低。拋光時(shí)適當(dāng)增加壓力可以提高拋光速度，但壓力過(guò)高會(huì)加強(qiáng)研磨作用，不利于光亮表面的形成。拋光速度取決于拋光盤的轉(zhuǎn)速，但線速度過(guò)高，拋光劑會(huì)被甩出，造成浪費(fèi)。